[发明专利]一种Ka波段基片集成波导魔T有效

专利信息
申请号: 201810073360.2 申请日: 2018-01-25
公开(公告)号: CN108376821B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 汪晓光;张开宁;陈良;肖阳;田伟成;张丽君 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01P5/20 分类号: H01P5/20
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及微波器件、传输线技术,具体涉及一种Ka波段基片集成波导魔T。本发明通过SIW魔T下层主波导采用圆楔形金属通孔使H‑T分支匹配,并使用感性金属膜片消除该圆楔形金属通孔产生寄生电容的影响,从而降低H臂端口的回波损耗。而上层E‑T分支由于电耦合会在耦合缝处产生寄生电容,所以使用感性金属块消除其影响,从而降低E臂端口的回波损耗。最终,本发明将SIW魔T的工作带宽提升至2GHz,幅度不平衡度降低至0.1dB。
搜索关键词: 一种 ka 波段 集成 波导
【主权项】:
1.一种Ka波段基片集成波导魔T,包括设置有耦合缝的上下两层介质基片,其特征在于:所述下层介质基片是魔T的H‑T分支,上层介质基片通过电耦合的方式实现E‑T分支,两层介质基片平行重叠,且上下层介质基片的横向边沿和纵向边沿分别对应平行,波导由介质基片上周期性排列的金属通孔构成;下层介质基片设置有主波导和分支波导,形成轴对称的H‑T分支,分支波导的中心线垂直于主波导的中心线,耦合缝沿H‑T分支波导的对称轴设置;主波导采用圆楔形金属通孔使H‑T分支匹配,该圆楔形金属通孔产生寄生电容,下层基片的耦合缝设置于圆楔形的尖端处,上下两层介质基片的耦合缝位置相对应;所述上层介质基片的E臂设有贯穿上层介质基片的调配金属块,以消除上层E‑T分支由于电耦合会在耦合缝处产生寄生电容的影响;调配金属块的宽度与基片集成波导的厚度相同,其上边沿与下边沿分别在波导的上下平面上。
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