[发明专利]缺陷检查方法及缺陷检测系统在审

专利信息
申请号: 201810044244.8 申请日: 2018-01-17
公开(公告)号: CN108287165A 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: 林宽宏;吴柏徵;洪嘉嬬 申请(专利权)人: 住华科技股份有限公司
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G01N21/95
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;鲍俊萍
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 缺陷检查方法及缺陷检测系统。缺陷检查方法包括一影像撷取步骤与一转换步骤。影像撷取步骤包括对一光学薄膜的一表面进行拍摄动作以产生一二维影像。转换步骤包括将二维影像转换成一灰阶值曲线。灰阶值曲线包括对应光学薄膜的一凹凸缺陷部分的缺陷灰阶值曲线。
搜索关键词: 灰阶值曲线 缺陷检查 缺陷检测系统 影像撷取步骤 光学薄膜 转换 凹凸缺陷 二维影像 拍摄动作 影像
【主权项】:
1.一种缺陷检查方法,其特征在于,包括:一影像撷取步骤,包括对一光学薄膜的一表面进行拍摄动作以产生一二维影像;及一转换步骤,包括将该二维影像转换成一灰阶值曲线,该灰阶值曲线包括对应该光学薄膜的一凹凸缺陷部分的缺陷灰阶值曲线。
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