[发明专利]基于缺电子基苯并噻二唑西弗碱及其设计合成方法有效
| 申请号： | 201810017559.3 | 申请日： | 2018-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN110015982B | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 凡素华;刘杰;张莹 | 申请（专利权）人： | 阜阳师范大学 |
| 主分类号： | C07C323/34 | 分类号： | C07C323/34;C07C319/12;C07D285/14 |
| 代理公司： | 北京冠榆知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11666 | 代理人： | 朱亚琦 |
| 地址： | 236037 安徽省阜阳*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开基于缺电子基苯并噻二唑西弗碱及其制备方法，以4‑溴三苯胺、4‑二苯胺基苯硼酸、4‑甲酰基苯硼酸、4,7‑二溴‑2,1,3‑苯并噻二唑、邻氨基苯硫酚为原料合成西弗碱(Schiff 1)和含缺电子基团的苯并噻二唑Schiff碱(Schiff 2)。所合成的中间体和产物采用红外光谱(IR)、紫外‑可见吸收光谱(UV‑vis)、荧光光谱(FS)、核磁共振氢谱(1HNMR)、核磁共振碳谱(13CNMR)及其质谱(MS)进行了表征。制备的Schiff碱可用于汞离子检测传感器。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 缺电 子基苯 噻二唑西弗碱 及其 设计 合成 方法 | ||
【主权项】：
1.基于缺电子基苯并噻二唑西弗碱，其特征在于，如下式所示化合物：![]()
n为大于或等于零的整数。
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