[发明专利]用于GPP工艺的光刻胶、制备方法及其光刻工艺有效

专利信息
申请号: 201810010041.7 申请日: 2018-01-05
公开(公告)号: CN108089403B 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 孙逊运;王安栋;吴淑财;于凯 申请(专利权)人: 潍坊星泰克微电子材料有限公司
主分类号: G03F7/038 分类号: G03F7/038;G03F7/004;G03F7/20
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 蔡蓉
地址: 261000 山东省潍坊市高新技术开*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及光刻技术领域,具体而言,涉及一种用于GPP工艺的光刻胶、制备方法及其光刻工艺。所述用于GPP的光刻胶,主要由主体树脂、产酸剂和溶剂制成,所述主体树脂为环氧树脂;所述用于GPP工艺的光刻胶主要是由按质量百分比的以下组分制成:主体树脂20‑60%、产酸剂4‑30%以及溶剂35‑70%。本发明所述的用于GPP工艺的光刻胶,产酸剂在光照条件下使环氧树脂交联而发生固化,生成致密的网络状结构,粘附于基底上;而未受光照部分即可通过安全无毒有机溶剂洗去显影,并且不需要采用二甲苯等毒性溶剂,无毒害、无环保隐患。
搜索关键词: 用于 gpp 工艺 光刻 制备 方法 及其
【主权项】:
1.用于GPP工艺的光刻胶,其特征在于,主要由主体树脂、产酸剂和溶剂制成,所述主体树脂为环氧树脂;优选的,所述光刻胶主要是由按质量百分比计的以下组分制成:主体树脂20-60%、产酸剂4-30%以及溶剂35-70%。
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