[发明专利]用于GPP工艺的光刻胶、制备方法及其光刻工艺在审
| 申请号： | 201810010018.8 | 申请日： | 2018-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN108196426A | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 孙逊运;吴淑财;于凯;王安栋 | 申请（专利权）人： | 潍坊星泰克微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 蔡蓉 |
| 地址： | 261000 山东省潍坊市高新技术开*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻技术领域，具体而言，涉及一种用于GPP工艺的光刻胶、制备方法及其光刻工艺。所述用于GPP的光刻胶，主要由主体树脂、交联剂、起始剂和溶剂制成，所述主体树脂为丙烯酸树脂；所述用于GPP工艺的光刻胶主要是由按质量百分比的以下组分制成：主体树脂20‑40％、交联剂5‑30％、起始剂1‑5％以及溶剂40‑70％。本发明所述的用于GPP工艺的光刻胶，丙烯酸树脂、交联剂和起始剂混合后在光照条件下发生交联，生成致密的网络状结构，粘附于基底上；而未受光照部分即可通过碱性水溶液洗去显影，并且不需要采用二甲苯等毒性溶剂，无毒害、无环保隐患。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶 主体树脂 交联剂 起始剂 丙烯酸树脂 光刻工艺 溶剂 制备 光刻技术领域 致密 碱性水溶液 网络状结构 质量百分比 毒性溶剂 光照条件 二甲苯 基底 交联 显影 粘附 光照 毒害 环保 | ||
【主权项】：
1.用于GPP工艺的光刻胶，其特征在于，主要由主体树脂、交联剂、起始剂和溶剂制成，所述主体树脂为丙烯酸树脂；优选的，所述光刻胶主要是由按质量百分比计的以下组分制成：主体树脂20‑40％、交联剂5‑30％、起始剂1‑5％以及溶剂40‑70％。
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