[发明专利]光源装置及投影系统有效
申请号: | 201810004974.5 | 申请日: | 2018-01-03 |
公开(公告)号: | CN109991800B | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 郭祖强;杨炳柯;李屹 | 申请(专利权)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518055 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种光源装置,包括:激发光源,用于发出激发光;色轮,所述色轮包括第一部分和第二部分,其中所述第一部分为用于接收所述激发光并产生受激光的转换区域;第二部分为用于接收所述激发光并出射所述激发光的非转换区域,所述非转换区域为透射区、空置区或镂空区,所述转换区域设置荧光粉层和反射层;光优化元件,用于优化所述受激光;光引导组件,用于引导所述激发光、经所述光优化元件优化后的受激光从相同的出射通道出射;光处理及输出元件,用于处理及输出经所述出射通道出射的激发光及受激光。本发明还涉及一种投影系统。所述光源装置及投影系统能够在获得好的光源性能的同时降低光源的厚度。 | ||
搜索关键词: | 光源 装置 投影 系统 | ||
【主权项】:
1.一种光源装置,其特征在于:所述光源装置包括:激发光源,用于发出激发光;色轮,所述色轮包括两部分,其中第一部分为用于接收所述激发光并产生受激光的转换区域;所述转换区域设置荧光粉层和反射层,第二部分为用于接收所述激发光并出射所述激发光的非转换区域,所述非转换区域为透射区或镂空区或空置区;光优化元件,用于优化所述受激光;光引导组件,用于引导所述激发光、经所述光优化元件优化后的受激光从相同的出射通道出射;所述光引导组件包括合光元件,所述合光元件设置在所述激发光源与所述色轮之间;光处理及输出元件,用于处理及输出经所述出射通道出射的激发光及受激光。
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