[发明专利]密封构造有效

专利信息
申请号: 201780090561.7 申请日: 2017-05-11
公开(公告)号: CN110651142B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 山本隆启;荆超;南畅;上田彰;法月祐树 申请(专利权)人: 株式会社华尔卡
主分类号: F16J15/18 分类号: F16J15/18;E21B10/22
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种能够提高密封件的寿命的密封构造。密封构造(1)具备环状的密封件(10)。密封件(10)在轴(20)与壳体(30)之间的滑动间隙中配置于在壳体(30)形成的密封槽(31)中。壳体(30)在与轴(20)的轴向(DR1)平行且通过轴(20)的中心线(C1)的假想平面的密封构造(1)的剖面中具有低压侧面部(32)。密封件(10)包含第1突出部(11)。第1突出部(11)自具有与低压侧面部(32)相接触的底面(13)的主体部(12)突出,且具有以随着靠近低压侧而靠近轴(20)的方式延伸的形状。第1突出部具有顶端部(14)。第1突出部具有与轴(20)相接触的接触区域(S)。顶端部(14)设于比接触区域(S)接近低压侧的位置。
搜索关键词: 密封 构造
【主权项】:
1.一种密封构造,其具备环状的密封件,该密封件在轴与壳体之间的滑动间隙中配置于在所述壳体形成的密封槽中,将高压侧和低压侧隔开,其中,/n所述壳体具有低压侧面部和槽底部,在与所述轴的轴向平行且通过所述轴的中心线的假想平面中的所述密封构造的剖面中,该低压侧面部构成所述密封槽的靠所述低压侧的侧面且沿着与所述轴向正交的方向延伸,该槽底部构成所述密封槽的底面且在所述剖面中沿着所述轴向延伸,/n所述密封件包含主体部和第1突出部,该主体部具有与所述低压侧面部相接触的底面,该第1突出部自所述主体部突出且具有以随着靠近所述低压侧而靠近所述轴的方式延伸的形状,/n所述第1突出部具有顶端部,该顶端部设于所述第1突出部的最接近所述低压侧的位置,/n在所述密封件配置于所述密封槽且被所述轴和所述槽底部按压的状态下,所述第1突出部具有与所述轴相接触的接触区域,/n所述顶端部设于比所述接触区域接近所述低压侧的位置。/n
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