[发明专利]将打印覆盖矩阵与对象属性矩阵相关在审
| 申请号： | 201780089877.4 | 申请日： | 2017-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN110612193A | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | P·莫罗维奇;J·莫罗维奇;M·M·戈特瓦尔斯;I·塔斯特尔 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | B29C64/393 | 分类号： | B29C64/393;B29C64/386;B29C64/314;B33Y50/02 |
| 代理公司： | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李雪娜;陈岚 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在示例中，一种方法包括在处理器处接收第一矩阵和第二矩阵，所述第一矩阵包括打印覆盖向量集，每个打印覆盖向量指定用于使用增材制造的对象生成的打印材料，所述第二矩阵包括使用打印覆盖向量生成的对象的对应属性集。所述方法还包括由所述处理器确定与所述第一和第二矩阵相关的目标函数的解。 | ||
| 搜索关键词： | 矩阵 打印 处理器 覆盖 打印材料 对象生成 目标函数 向量生成 属性集 向量集 向量 制造 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：/n在处理器处接收第一矩阵和第二矩阵，所述第一矩阵包括打印覆盖向量集，每个打印覆盖向量指定用于使用增材制造的对象生成的打印材料，所述第二矩阵包括使用打印覆盖向量生成的对象的对应属性集；以及/n由处理器确定与所述第一和第二矩阵相关的目标函数的解。/n
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