[发明专利]吸嘴保持机构及元件安装装置有效
申请号: | 201780089769.7 | 申请日: | 2017-04-19 |
公开(公告)号: | CN110521296B | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 井村仁哉 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士 |
主分类号: | H05K13/04 | 分类号: | H05K13/04 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨青;安翔 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 吸嘴保持机构能够在元件安装装置的头保持多种吸嘴,该吸嘴保持机构具备:磁铁,设于头的保持部;及磁性体,设于由头的保持部保持的一侧的吸嘴的被保持部中的与磁铁相向的位置,被磁铁吸引。磁性体被设为在头保持有吸嘴的状态下在该磁性体与磁铁之间具有间隙。并且,间隙根据头所保持的吸嘴的种类而被调整宽窄。 | ||
搜索关键词: | 保持 机构 元件 安装 装置 | ||
【主权项】:
1.一种吸嘴保持机构,能够在元件安装装置的头保持多种吸嘴,所述吸嘴保持机构的特征在于,/n所述吸嘴保持机构具备:/n磁铁,设于所述头的保持部;及/n磁性体,设于由所述头的保持部保持的一侧的所述吸嘴的被保持部中的与所述磁铁相向的位置,被所述磁铁吸引,/n所述磁性体被设为在所述头保持有所述吸嘴的状态下在所述磁性体与所述磁铁之间具有间隙,/n所述间隙根据所述头所保持的所述吸嘴的种类而被调整宽窄。/n
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