[发明专利]改进的用于膜反应器的双层膜在审
| 申请号： | 201780085814.1 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN110325265A | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | F·戈鲁奇;A·埃拉蒂贝;M·范圣安娜兰德;D·A·帕切科塔纳卡;E·费尔南德斯葛撒拉嘎 | 申请（专利权）人： | 埃因霍温科技大学;特克纳利亚研究与创新公司 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/02;B01D53/22;B01J23/40;C01B3/38;C01B3/50 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 蔡文清;陈文青 |
| 地址： | 荷兰埃*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供一种氢渗透膜装置，其包括多孔陶瓷层以及沉积在介孔陶瓷层上的多孔Pd薄膜或多孔Pd合金薄膜，所述多孔陶瓷层具有包括氧化锆、氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)、γ/Al2O3和/或YSZ‑γ/Al2O3的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 多孔陶瓷层 氧化锆 薄膜 氧化钇稳定 膜反应器 氢渗透膜 双层膜 陶瓷层 介孔 沉积 改进 | ||
【主权项】：
1.一种氢渗透膜装置，其包括：a.氢选择性Pd薄膜或Pd合金薄膜；以及b.多孔保护层，其包含选自下组的材料：氧化锆、氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)、γ/Al2O3、YSZ‑γ/Al2O3、二氧化硅、二氧化钛、氧化镁、二氧化铈、氮化物和碳化硅。
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