[发明专利]光学装置和相关方法有效
| 申请号： | 201780077291.6 | 申请日： | 2017-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN110088684B | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | S·S·R·奥马罗辛哈;A·J·布里克;A·M·斯卓克肯;恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇;B·P·范德利恩胡森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 对准系统将激光束与参考平面中的期望位置和参考平面中的期望方向对准。该系统将激光衍射成不同的衍射级，使用不同的透镜将不同的衍射级投影到检测平面上。由于不同的衍射级在检测平面中的投影的部位对束在参考平面中的位置和方向的变化做出不同的响应，因此投影的部位使得能够确定如何调节束以便使束正确地对准。衍射和投影可以通过全息图实现。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 装置 相关 方法 | ||
【主权项】：
1.一种辐射源系统，包括对准系统，所述对准系统被配置成用于确定电磁辐射束相对于参考平面中的参考位置的位置，并且用于确定所述电磁辐射束相对于所述参考平面中的参考方向的方向，其中：所述对准系统被配置成用于将表示与所述参考平面相交的所述电磁辐射束的图像投影到检测平面上；所述对准系统包括衍射光学系统；所述衍射光学系统是能够操作的以将所述电磁辐射束衍射成不同的衍射级；所述衍射光学系统具有第一透镜和第二透镜；所述第一透镜是能够操作的以在所述检测平面中的第一部位上产生所述不同的衍射级中的第一特定衍射级的第一投影；和所述第二透镜是能够操作的以在所述检测平面中的不同于所述第一部位的第二部位上产生所述不同的衍射级中的第二特定衍射级的第二投影。
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