[发明专利]化合物、树脂、组合物以及抗蚀图案形成方法及电路图案形成方法在审
| 申请号： | 201780074028.1 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN110023277A | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 越后雅敏 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C43/23 | 分类号： | C07C43/23;C07C43/295;C07D311/78;C08G8/08;C08L61/04;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/11;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明为具有下述式(0)所示的特定结构的化合物、具有源自该化合物的结构单元的树脂、含有该化合物和/或该树脂的各种组合物、以及使用该组合物的各种方法。 |
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| 搜索关键词： | 树脂 电路图案 抗蚀图案 | ||
【主权项】：
1.一种化合物，其由下述式(0)表示，![]()
式(0)中，RY为氢原子、碳数1～30的烷基或碳数6～30的芳基，RZ为碳数1～60的N价的基团或单键，RT各自独立地为任选具有取代基的碳数1～30的烷基、任选具有取代基的碳数6～30的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的烯基、任选具有取代基的碳数1～30的烷氧基、卤原子、硝基、氨基、羧基、巯基、羟基或包含羟基的氢原子被任选具有取代基的碳数6～30的羟基芳基取代而成的基团的基团，所述烷基、所述芳基、所述烯基及所述烷氧基任选包含醚键、酮键或酯键，此处，RT中的至少一者为包含羟基的氢原子被任选具有取代基的碳数6～30的羟基芳基取代而成的基团的基团，X表示氧原子、硫原子、单键或为无桥接，m各自独立地为0～9的整数，此处，m中的至少1个为1～9的整数，N为1～4的整数，N为2以上的整数时，N个[]内的结构式任选相同或不同，r各自独立地为0～2的整数。
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