[发明专利]化合物、树脂、组合物以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法在审
申请号: | 201780074026.2 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN110023276A | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
发明(设计)人: | 越后雅敏 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C07C39/15 | 分类号: | C07C39/15;C07C39/12;C07D311/78;C08G8/20;G03F7/039;G03F7/11;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明如下:具有下述式(0)所示的特定的结构的化合物;具有源自该化合物的结构单元的树脂;含有该化合物和/或该树脂的各种组合物;以及,使用该组合物的各种方法。 |
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搜索关键词: | 树脂 电路图案 抗蚀图案 | ||
【主权项】:
1.一种下述式(0)所示的化合物,
式(0)中,RY为氢原子、碳数1~30的烷基或碳数6~30的芳基,RZ为碳数1~60的N价的基团或单键,RT各自独立地为任选具有取代基的碳数1~30的烷基、任选具有取代基的碳数6~30的芳基、任选具有取代基的碳数2~30的烯基、任选具有取代基的碳数1~30的烷氧基、卤素原子、硝基、氨基、羧基、巯基、羟基,所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述烷氧基任选包含醚键、酮键或酯键,此处,RT中的至少1者为包含碳数2~5的烷氧基甲基或羟甲基的一价的基团,X为单键、氧原子、硫原子或未桥接,m各自独立地为0~9的整数,此处,m中的至少1者为1~9的整数,N为1~4的整数,N为2以上的整数的情况下,N个[]内的结构式任选相同或不同,r各自独立地为0~2的整数。
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