[发明专利]基于透镜阵列的光束匀化器

摘要

一种用于光束匀化器(100)的校正掩模(10)包括透镜阵列(11)。校正掩模配置为提供成形的初始光束轮廓(I0’)。入射光束(B0)和照明平面(14)之间的多个光路(Pa)的子集至少部分地被校正掩模(10)阻挡以提供进一步均匀化光束轮廓(I2)，光束轮廓(I2)具有相对于初始均匀化光束轮廓(I1)进一步减小的光强度变化(ΔI2)。掩模包括根据与透镜阵列(11)的透镜网格布局(L)匹配的掩模网格布局(M)布置的多个子掩模(10a)。子掩模(10a)中的每一个设计有特定的子掩模图案，以成形(S)初始光束轮廓(I0)的通过小透镜(11a)中的特定一个的相应子区域。

主权项

1.一种光束匀化器(100)，包括：‑透镜阵列(11)，配置为接收具有初始光束轮廓(I0)的入射光束(B0)，所述初始光束轮廓(I0)具有待均匀化的初始光强度变化(ΔI0)，其中，所述透镜阵列(11)由多个小透镜(11a)形成，所述多个小透镜(11a)根据跨越所述初始光束轮廓(I0)的区域的透镜网格布局(L)布置，其中，每个小透镜(11a)布置在相应的光路(Pa)中以在照明平面(14)处投射所述初始光束轮廓(I0)的相应子区域的部分图像(Ia)，其中，多个所述部分图像(Ia)投射成在所述照明平面(14)处重叠以在所述照明平面(14)处形成所述初始光束轮廓(I0)的初始均匀化光束轮廓(I1)，其中，通过所述部分图像(Ia)的重叠，所述初始均匀化光束轮廓(I1)具有相对于所述入射光束(B0)的所述初始光束轮廓(I0)中的所述初始光强度变化(ΔI0)初始减小的光强度变化(ΔI1)；以及‑校正掩模(10)，配置为提供成形的初始光束轮廓(I0’)，其中，所述入射光束(B0)和所述照明平面(14)之间的所述多个光路(Pa)的子集至少部分地被所述校正掩模(10)阻挡，以提供进一步均匀化光束轮廓(I2)，所述进一步均匀化光束轮廓(I2)相对于所述初始均匀化光束轮廓(I1)具有进一步减小的光强度变化(ΔI2)；其中，所述掩模包括根据与所述透镜阵列(11)的所述透镜网格布局(L)匹配的掩模网格布局(M)布置的多个子掩模(10a)，其中，所述掩模网格布局(M)与所述透镜网格布局(L)对齐，其中，所述子掩模(10a)中的每一个设计有特定的子掩模图案，以成形(S)所述初始光束轮廓(I0)的通过所述小透镜(11a)中的特定一个的相应子区域，其特征在于，不同子掩模(10a，10b，10c，10d)的子掩模图案包括与相应小透镜(11a)的中心对准的不同圆形边缘，其中，所述不同圆形边缘设计成不同地成形所述初始光束轮廓(I0)的通过不同小透镜的相应子区域。