[发明专利]用于调谐经调制晶片的敏感度及确定用于经调制晶片的工艺窗的系统、方法及非暂时性计算机可读媒体有效
申请号: | 201780068639.5 | 申请日: | 2017-11-20 |
公开(公告)号: | CN109952502B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | D·C·欧兰;A·马修尔;K·吴;E·希夫林 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/01 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘丽楠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种用于调谐经调制晶片的敏感度及确定用于所述经调制晶片的工艺窗的系统、方法及非暂时性计算机可读媒体。基于单组参数而动态地调谐所述经调制晶片的裸片的敏感度。此外,依据现有所确定的参数特定标称工艺窗而确定用于所述经调制晶片的所述工艺窗。 | ||
搜索关键词: | 用于 调谐 调制 晶片 敏感度 确定 工艺 系统 方法 暂时性 计算机 可读 媒体 | ||
【主权项】:
1.一种存储计算机程序产品的非暂时性计算机可读媒体,所述计算机程序产品具有可由处理器执行以执行方法的代码,所述方法包括:针对具有根据至少两个参数而以不同方式经调制的多个裸片的晶片界定第一关心区区域;基于所述第一关心区区域而执行所述晶片的第一缺陷扫描;获得所述第一缺陷扫描的结果;依据所述第一缺陷扫描的所述结果且基于属性空间,针对所述至少两个参数中的第一参数而确定第一标称工艺窗;依据所述第一缺陷扫描的所述结果且基于所述属性空间,针对所述至少两个参数中的第二参数而确定第二标称工艺窗;基于所述第一标称工艺窗及所述第二标称工艺窗而确定用于所述晶片的预测工艺窗;基于最终关心区而在所述预测工艺窗内执行所述晶片的第二缺陷扫描;获得所述第二缺陷扫描的结果;依据所述第二缺陷扫描的所述结果,确定用于所述晶片的最终工艺窗。
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