[发明专利]光刻设备和制造器件的方法有效
| 申请号： | 201780057613.0 | 申请日： | 2017-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109716238B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | J·A·维埃拉萨拉斯;A·J·贝恩;V·M·布兰科卡巴洛 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种浸没式光刻设备，包括：支撑台，配置成支撑具有至少一个目标部分的物体；投影系统，配置成将图案化的束投影到所述物体上；定位器，配置成相对于所述投影系统移动所述支撑台；液体限制结构，配置成将液体限制在所述投影系统和所述物体和/或所述支撑台的表面之间的浸没空间；和控制器，配置成控制所述定位器，从而移动所述支撑台以遵循由一系列运动组成的路线，所述控制器适配成：当在所述路线的所述系列运动中的至少一个运动期间所述浸没空间的边缘越过所述物体的边缘时，预测所述浸没空间的边缘相对于所述物体的边缘的速率；比较所述速率和预定参数，如果所述速率大于所述预定参数，则预测在所述至少一个运动期间从所述浸没空间损失液体；和如果预测到从所述浸没空间损失液体，则相应地修改所述至少一个运动期间所述路线的一个或更多个参数。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种浸没式光刻设备，包括：支撑台，配置成支撑具有至少一个目标部分的物体；投影系统，配置成将图案化的束投影到所述物体上；定位器，配置成相对于所述投影系统移动所述支撑台；液体限制结构，配置成将液体限制在所述投影系统和所述物体和/或所述支撑台的表面之间的浸没空间；和控制器，配置成控制所述定位器，从而移动所述支撑台以遵循由一系列运动组成的路线，所述控制器适配成：当在所述路线的所述系列运动中的至少一个运动期间所述浸没空间的边缘越过所述物体的边缘时，预测所述浸没空间的边缘相对于所述物体的边缘的速率；比较所述速率和预定参数，如果所述速率大于所述预定参数，则预测在所述至少一个运动期间从所述浸没空间损失液体；和如果预测到从所述浸没空间损失液体，则相应地修改所述至少一个运动期间所述路线的一个或更多个参数。
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