[发明专利]感光化或感放射线性树脂组合物及其膜、图案形成方法、电子器件制造方法、化合物及树脂有效
| 申请号： | 201780052378.8 | 申请日： | 2017-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN109643064B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 高田晓;西尾亮;后藤研由;白川三千纮;丹吴直纮;丸茂和博;崎田享平 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;C08F20/26;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供即使将曝光的扫描速度设为超高速，也能够具有液浸液的高追随性并能够减少残渣和显影缺陷的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有以通式(1)所表示的重复单元的树脂(C)。图案形成方法包含通过感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序，电子器件的制造方法包含图案形成方法。通式(1)中，Z表示卤素原子、以R |
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| 搜索关键词： | 感光 放射 线性 树脂 组合 及其 图案 形成 方法 电子器件 制造 化合物 | ||
【主权项】：
1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有树脂(C)，该树脂(C)具有以下述通式(1)所表示的重复单元；![]()
上述通式(1)中，Z表示卤素原子、以R11OCH2－所表示的基团或以R12OC(＝O)CH2－所表示的基团；R11及R12分别独立地表示一价取代基；X表示氧原子或硫原子；L表示(n+1)价的连结基团；R表示如下基团，该基团具有通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团；n表示正整数；当n为2以上时，两个以上的R彼此相同或不同。
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