[发明专利]具有薄膜台阶覆盖性的涂覆膜、具备该膜的结构基体

摘要

本发明提供具备均匀且薄的涂覆膜的结构基体及其制造方法，所述涂覆膜具有优异的抑制生物材料附着的能力，并且不对光学测定等造成影响。在至少一部分表面具备最大膜厚与最小膜厚之差为以下的涂覆膜的结构基体及其制造方法。上述涂覆膜包含下述共聚物，所述共聚物包含：含有下式(a)表示的基团的重复单元；和含有下式(b)表示的基团的重复单元(式中，U^a1、U^a2、U^b1、U^b2、U^b3及An^‑如说明书或权利要求书中所述)。

主权项

1.一种结构基体，其在至少一部分表面具备最大膜厚与最小膜厚之差为以下的涂覆膜，所述涂覆膜包含下述共聚物，所述共聚物包含：含有下式(a)表示的基团的重复单元；和含有下式(b)表示的基团的重复单元，[化学式1]式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基，An‑表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧根离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子。