[发明专利]用于量测目标场的设计的方法和设备有效
| 申请号： | 201780043927.5 | 申请日： | 2017-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN109478023B | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | M·范德斯卡;M·博兹库尔特;帕特里克·华纳;S·C·T·范德山登 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了一种用于提供准确的且鲁棒性的测量光刻特征或量测参数的方法和设备。所述方法包括为量测目标的多个量测参数中的每一个量测参数提供一个范围的值或多个值，为多个量测参数中的每一个量测参数提供约束，并且通过处理器计算以在所述一个范围的值或多个值内优化/修改这些参数，从而导致多个量测目标设计具有满足约束的量测参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 目标 设计 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：测量由多个量测目标散射的光，所述多个量测目标已经使用量测参数进行设计并且通过制造过程生产；确定每个量测目标的修改值；和基于每个量测目标相应的修改值确定每个量测目标的倍增因子。
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