[发明专利]用于确定性能参数的指纹的方法和设备有效
| 申请号： | 201780043341.9 | 申请日： | 2017-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN109478021B | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | L·M·A·范德洛格特;B·P·B·西哥斯;S·H·C·范格尔佩;C·C·M·卢伊滕;F·斯塔尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光刻过程是一种将所需图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的工艺。在光刻过程中，需要控制聚焦。公开了一种用于确定与衬底相关的性能参数的指纹的方法，例如在光刻过程期间要使用的聚焦值。确定参考衬底的性能参数的参考指纹。确定参考衬底的参考衬底参数。确定衬底(例如具有产品结构的衬底)的衬底参数。随后，基于参考指纹、参考衬底参数和衬底参数确定性能参数的指纹。然后可以使用指纹来控制光刻过程。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 性能参数 指纹 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于确定与衬底相关的性能参数的指纹的方法，所述方法包括：确定与参考衬底相关的性能参数的参考指纹的步骤；确定与所述参考衬底相关的至少一个参考衬底参数的步骤；确定与所述衬底相关的至少一个衬底参数的步骤；和基于所述参考衬底参数、所述衬底参数和所述参考指纹确定所述性能参数的所述指纹的步骤。
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