[发明专利]用于掩蔽基板的掩模布置、用于处理基板的设备及其方法有效
| 申请号： | 201780041675.2 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN109844164B | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 马蒂亚斯·赫曼尼斯;托马索·维尔切斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述一种用于在处理腔室中进行沉积期间掩蔽基板的掩模布置(100)。所述掩模布置(100)包括：掩模框架(110)，用于保持掩模(115)；和掩模载体(120)，用于保持所述掩模框架(110)，其中所述掩模框架(110)由顺应性支撑件(130)连接到所述掩模载体(120)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 掩蔽 布置 处理 设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在处理腔室中进行沉积期间掩蔽基板的掩模布置(100)，所述掩模布置包括：‑掩模框架(110)，用于保持掩模(115)，和‑掩模载体(120)，用于保持所述掩模框架(110)，其中所述掩模框架(110)由顺应性支撑件(130)连接到所述掩模载体(120)。
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