[发明专利]涂敷处理装置、涂敷处理方法和计算机存储介质有效
| 申请号： | 201780040038.3 | 申请日： | 2017-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN109416425B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 池田文彦 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种能够对基片涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其包括：用于保持基片的保持部；对保持于保持部的基片排出涂敷液的涂敷嘴；和使保持部与涂敷嘴在正交方向相对地移动的移动机构，能够以任意的角度恰当且高效地对基片涂敷涂敷液。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 计算机 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种能够对基片涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其特征在于，包括：用于保持基片的保持部；对保持于所述保持部的基片排出所述涂敷液的涂敷嘴；和使所述保持部与所述涂敷嘴在正交方向相对地移动的移动机构。
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