[发明专利]成像光学系统及成像装置有效

专利信息
申请号: 201780033035.7 申请日: 2017-05-31
公开(公告)号: CN109313322B 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 大桥和泰 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G02B9/60 分类号: G02B9/60;G02B9/62;G02B13/00;G02B13/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王珊珊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种成像光学系统,包括:第一透镜,具有凹像侧表面及负折射能力;第二透镜,具有凸物侧表面及正折射率;第三透镜,具有凹物侧表面及负折射能力;第四透镜,具有凸像侧表面及正折射能力;以及第五透镜,具有凸物侧表面并且按从物侧到像侧的顺序具有正折射能力,该系统可选地包括在第五透镜的像侧上的透镜。该成像光学系统满足以下条件表达式:[1]1.94n22.20及[2]15.0ν220.0,其中,ν2和n2分别表示第二透镜L2的透镜材料在d线处的阿贝数和折射率。
搜索关键词: 成像 光学系统 装置
【主权项】:
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