[发明专利]三氯化硼的制造方法有效
| 申请号： | 201780032828.7 | 申请日： | 2017-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN109195909B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 毛利早纪;栗原秀行 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C01B35/06 | 分类号： | C01B35/06 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李照明;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的课题是提供一种三氯化硼的制造方法，该方法通过充分除去反应体系内的水分来抑制水分造成的副产物的生成，高效制造三氯化硼。为此本发明的三氯化硼的制造方法，包含以下的脱水工序和生成工序，脱水工序：在比通过碳化硼和氯气之间的反应而开始生成三氯化硼的生成开始温度低的温度下，使含有氯气并且水分含量为1体积ppm以下的含氯气体与碳化硼接触，从而使所述碳化硼中含有的水分与所述含氯气体中的氯气反应、除去所述碳化硼中含有的水分；生成工序：将经所述脱水工序被脱水了的所述碳化硼与氯气反应而生成三氯化硼。 | ||
| 搜索关键词： | 氯化 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种三氯化硼的制造方法，通过碳化硼和氯气之间的反应来制造三氯化硼，包含以下的脱水工序和生成工序，脱水工序：在比通过碳化硼和氯气之间的反应而开始生成三氯化硼的生成开始温度低的温度下，使含有氯气并且水分含量为1体积ppm以下的含氯气体与碳化硼接触，从而使所述碳化硼中含有的水分与所述含氯气体中的氯气反应、除去所述碳化硼中含有的水分，生成工序：将经所述脱水工序被脱水了的所述碳化硼与氯气反应而生成三氯化硼。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昭和电工株式会社，未经昭和电工株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780032828.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
