[发明专利]高折射率(HRI)衬底以及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201780032387.0 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN109154683A 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: S·H·金;S-J·金 申请(专利权)人: 沙特基础工业全球技术公司
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;H01L51/50;H01L51/52;G02B1/14
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 张全信;王占洋
地址: 荷兰,贝*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 本公开涉及适合于包括在OLED中的高折射率衬底,所述衬底包括聚合物材料和在其中分散的无机精细颗粒,所述颗粒的大小范围从大约1nm至大约50nm。
搜索关键词: 衬底 高折射率 无机精细颗粒 聚合物材料 制造
【主权项】:
1.适合于包括在有机发光二极管(OLED)中的高折射率衬底,所述高折射率衬底包括聚合物材料和在其中分散的纳米颗粒,所述纳米颗粒的大小范围从大约1nm至大约50nm。
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