[发明专利]高分子薄膜的制造方法在审
申请号: | 201780031776.1 | 申请日: | 2017-05-15 |
公开(公告)号: | CN109563279A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 长野卓人;山口克己;南秀人 | 申请(专利权)人: | 株式会社钟化;国立大学法人神户大学 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08F2/26 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 沈雪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种高效地制造低吸水性的高分子薄膜的方法。本发明的高分子薄膜的制作方法包括:在含有表面活性肽盐、具有乙烯基的单体、聚合引发剂和水性溶剂的反应液中,使所述单体聚合来获得粒状聚合物的工序;以及,由所述粒状聚合物获得高分子薄膜的工序,其中,将所述反应液中所述单体的浓度设为10质量%以上、且60质量%以下。 | ||
搜索关键词: | 高分子薄膜 粒状聚合物 表面活性肽 聚合引发剂 单体聚合 低吸水性 水性溶剂 乙烯基 制造 制作 | ||
【主权项】:
1.一种高分子薄膜的制造方法,该方法至少包括:在含有下述式(I)表示的表面活性肽盐、具有乙烯基的单体、聚合引发剂和水性溶剂的反应液中,使该单体聚合来获得粒状聚合物的工序;以及由所述粒状聚合物获得高分子薄膜的工序,其中,将所述反应液中所述单体的浓度设为10质量%以上、且60质量%以下,
式中,X表示选自亮氨酸、异亮氨酸和缬氨酸的氨基酸残基;R表示C9‑18烷基;M+表示碱金属离子或季铵离子。
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