[发明专利]纳米压印用复制模、其制造方法及纳米压印用复制模制造装置在审
| 申请号： | 201780029355.5 | 申请日： | 2017-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN109073979A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 权相民;具滋鹏;丘璜燮;金铉济;郑熙锡 | 申请（专利权）人： | 吉佳蓝科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/00;B29C43/02;B29C35/08;B29C33/60;G03F7/20;H01L21/027;H01L29/06;B82B3/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;张敬强 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种纳米压印用复制模、其制造方法及纳米压印用复制模制造装置。本发明的纳米压印用复制模的特征在于，包括：基底，其由塑料膜形成；转印部，其形成于所述基底；以及导膜，其能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物，所述转印部由树脂形成，且形成有凹凸状的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米压印 复制模 转印部 基底 制造装置 凹凸状 塑料膜 外周面 树脂 异物 固化 制造 图案 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印用复制模，其特征在于，包括：基底，其由塑料膜形成；转印部，其形成于所述基底；以及导膜，其能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物，所述转印部由树脂形成，且形成有凹凸状的图案。
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