[发明专利]用于缩短纳米压印光刻的填充时间的压印抗蚀剂和基材预处理有效
| 申请号： | 201780021958.0 | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN108885394B | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 刘卫军;蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克;詹姆斯·P·德扬;尼亚兹·科斯纳蒂诺夫 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B29C59/02;B82Y10/00 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 通过使用包括氟化组分的压印抗蚀剂和用预处理组合物处理过的基材以促进压印抗蚀剂在基材上的展开来提高纳米压印光刻法的处理量。预处理组合物与空气之间的界面能超过压印抗蚀剂与空气之间的界面能1mN/m，并且压印抗蚀剂在纳米压印光刻模板上的接触角小于15°。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 缩短 纳米 压印 光刻 填充 时间 抗蚀剂 基材 预处理 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印光刻法，其特征在于，其包括：将预处理组合物配置在基材上以在所述基材上形成预处理涂层，其中所述预处理组合物包括第一聚合性组分；将压印抗蚀剂的离散部分配置在所述预处理涂层上，所述压印抗蚀剂的各离散部分覆盖所述基材的目标区域，其中所述压印抗蚀剂为聚合性组合物并且包括氟化表面活性剂和氟化聚合性组分中的至少一者；随着所述压印抗蚀剂的各离散部分展开超出其目标区域，在所述基材上形成复合聚合性涂层，其中所述复合聚合性涂层包括所述预处理组合物和所述压印抗蚀剂的混合物；将所述复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板的表面接触；并且使所述复合聚合性涂层聚合以在所述基材上产生复合聚合物层，其中所述预处理组合物与空气之间的界面能超过所述压印抗蚀剂与空气之间的界面能至少1mN/m，并且所述压印抗蚀剂在所述纳米压印光刻模板的表面上的接触角小于15°。
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