[发明专利]计算设备中的黑体辐射有效
申请号: | 201780021174.8 | 申请日: | 2017-03-22 |
公开(公告)号: | CN109074138B | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
发明(设计)人: | A·D·德拉诺;A·A·欧罗;K·库鲁马达里 | 申请(专利权)人: | 微软技术许可有限责任公司 |
主分类号: | G06F1/20 | 分类号: | G06F1/20;H05K7/20;H01L23/427;H01L23/467;G06F1/16 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡利鸣;陈斌 |
地址: | 美国华*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文中描述了热管理系统。热管理系统包括计算设备的各组件。计算设备包括外壳。外壳包括内表面。外壳的内表面的一部分具有第一发射率。计算设备还包括定位在外壳内的热管理设备,该热管理设备与外壳的内表面的该部分相距一距离。热管理设备包括外表面。热管理设备的外表面包括第一部分和第二部分。热管理设备的外表面的第一部分具有第二发射率,并且热管理设备的外表面的第二部分具有第三发射率。第二发射率大于第三发射率,而第一发射率与第二发射率基本相同。 | ||
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【主权项】:
1.一种计算设备,包括:包括内表面的外壳,所述外壳的所述内表面的一部分具有第一发射率;定位在所述外壳内的热管理设备,所述热管理设备与所述外壳的所述内表面的所述部分相距一距离,所述热管理设备包括外表面,所述热管理设备的所述外表面包括第一部分和第二部分,所述热管理设备的所述外表面的所述第一部分具有第二发射率并且所述热管理设备的所述外表面的所述第二部分具有第三发射率,其中所述第二发射率大于所述第三发射率,而所述第一发射率与所述第二发射率基本相同。
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