[发明专利]超纯水制造系统有效
| 申请号： | 201780019033.2 | 申请日： | 2017-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN108779006B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 川胜孝博;饭野秀章;金田真幸;佐藤大辅 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社;旭化成株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/44 | 分类号： | C02F1/44;B01D61/16;B01D63/02;B01D69/02;C02F1/32;C02F1/42;C02F1/58;C02F9/02;C02F9/04;C02F9/12 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种超纯水制造系统，其能够除去水中的粒径20nm以下、特别是10nm以下的微粒，能够高效率且高水量制造超纯水。超纯水制造系统具备预备处理装置、及处理该预备处理装置的处理水的全量过滤装置。该预备处理装置以其处理水中的微粒数成为800～1200个/mL(粒径20nm以上)的方式进行处理。全量过滤装置作为过滤膜具备精密过滤膜或超滤膜，精密过滤膜的膜表面的孔径在0.05～1μm的范围的细孔的开口率为50～90％，膜厚为0.1～1mm；超滤膜的膜表面的孔径在0.005～0.05μm的范围的细孔数为1E13～1E15个/m |
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| 搜索关键词： | 超纯水 制造 系统 | ||
【主权项】：
1.一种超纯水制造系统，其具备预备处理装置、以及对该预备处理装置的处理水进行处理的全量过滤装置，其特征在于，该预备处理装置进行处理，使该预备处理装置的处理水中的微粒数成为计测数是800～1200个/mL，该计测数是从设置于主配管的取样阀向粒子监测系统公司制造的线上粒子监视器Ultra‑DI20进行送液并且以60min移动平均法得到的粒径20nm以上的计测数，该线上粒子监视器Ultra‑DI20能够以检测灵敏度5％进行检测粒径20nm的微粒，并且能够以测定误差±20％进行计测，前述全量过滤装置作为过滤膜具备精密过滤膜或超滤膜，该精密过滤膜的膜表面的孔径在0.05～1μm的范围的细孔的开口率为50～90％，膜厚为0.1～1mm；该超滤膜的膜表面的孔径在0.005～0.05μm的范围的细孔数为1E13～1E15个/m2，膜厚为0.1～1mm，透过流束为10m3/m2/天时的膜间差压为0.02～0.10MPa。
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