[发明专利]光发射设备在审

专利信息
申请号: 201780017796.3 申请日: 2017-03-06
公开(公告)号: CN109416169A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: H·J·B·贾格特;D·M·布鲁尔斯;D·A·贝诺伊;D·K·G·德博尔;H·J·科尼利森;J·J·维瑞恩;J·G·博埃瑞坎普;C·G·A·霍埃伦 申请(专利权)人: 飞利浦照明控股有限公司
主分类号: F21V29/502 分类号: F21V29/502;F21V29/70;F21S41/14;H01S5/00;F21V7/00;F21V7/22;F21V9/30;H01S5/323;H01S5/40;F21K9/64;F21V5/00;G03B21/20;F21Y101/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱
地址: 荷兰艾恩*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种光发射设备(1),包括:发光元件(3),包括第一面(31)和第二面(32),第一面包括光输入表面并且第一面和第二面中的一个面包括光出射表面,发光元件(3)适于:在光输入表面处接收由至少一个激光光源(21、22、23)发射的具有第一光谱分布的第一光(4)、将具有第一光谱分布的第一光的至少一部分转换为具有第二光谱分布的第二光(5)、将具有第二光谱分布的第二光引导至光出射表面、并且将具有第二光谱分布的第二光的至少一部分从光出射表面耦出,以及散热器元件(7),设置为与在第一面(31)和第二面(32)之间延伸的发光元件(3)的至少一部分热接触,其中第一面(31)包括截面面积A,并且发光元件(3)还包括:长度L,该长度L被限定为第一面和第二面之间的最短距离;以及截面面积A的特征长度B,特征长度B被限定为截面面积A的平方根,并且其中长度L和截面面积A的特征长度B被选择,使得它们满足如下关系中的任何一个关系:对于λTHC<6W/mK,L/B≥2*Ells/44(W/mm2),对于6W/mK≤λTHC≤8W/mK,L/B≥1.3*Ells/44(W/mm2),以及对于8W/mK<λTHC,L/B≥0.85*Ells/44(W/mm2),其中Ells是以W/mm2测量的至少一个激光光源的辐照度,并且λTHC是室温下发光元件的热学上的热系数。
搜索关键词: 发光元件 光谱分布 第二面 光出射表面 光输入表面 激光光源 光发射 散热器元件 最短距离 辐照度 光引导 平方根 热接触 热系数 热学 测量 发射 延伸 转换
【主权项】:
1.一种光发射设备(1),包括:发光元件(3),包括第一面(31)和第二面(32),所述第一面包括光输入表面并且所述第一面和所述第二面中的一个面包括光出射表面,所述发光元件(3)适于:在所述光输入表面处接收由至少一个激光光源(21、22、23)发射的具有第一光谱分布的第一光(4)、将具有所述第一光谱分布的所述第一光的至少一部分转换为具有第二光谱分布的第二光(5)、将具有所述第二光谱分布的所述第二光引导至所述光出射表面、并且将具有所述第二光谱分布的所述第二光的至少一部分从所述光出射表面耦出,以及散热器元件(7),设置为与在所述第一面(31)和所述第二面(32)之间延伸的所述发光元件(3)的至少一部分热接触,其中所述第一面(31)包括截面面积A,并且所述发光元件(3)还包括:长度L,所述长度L被限定为所述第一面和所述第二面之间的最短距离;以及所述截面面积A的特征长度B,所述特征长度B被限定为所述截面面积A的平方根,并且其中所述长度L和所述截面面积A的所述特征长度B被选择,使得它们满足如下关系中的任何一个关系对于λTHC<6W/mK,L/B≥2*Ells/44(W/mm2),对于6W/mK≤λTHC≤8W/mK,L/B≥1.3*Ells/44(W/mm2),以及对于8W/mK<λTHC,L/B≥0.85*Ells/44(W/mm2),其中Ells是以W/mm2测量的所述至少一个激光光源的辐照度,并且λTHC是室温下所述发光元件的热学上的热系数,其中所述发光元件(3)包括掺杂剂,并且其中掺杂剂浓度考虑到所述发光元件的所述长度L被选择,使得具有所述第一光谱分布的所述第一光的吸收长度使得:在具有所述第一光谱分布的所述第一光已经行进了与所述发光元件的所述长度L对应的路径之后,剩余具有所述第一光谱分布的所述第一光的10%或更少。
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