[发明专利]光学薄膜的制造方法以及模具有效
申请号: | 201780014466.9 | 申请日: | 2017-03-16 |
公开(公告)号: | CN108780162B | 公开(公告)日: | 2019-09-03 |
发明(设计)人: | 中松健一郎;新纳厚志;林秀和 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;B29C33/42;B29C59/02;B32B3/30;B32B7/023;B32B38/06;G02B1/14;G02B1/18 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飞亚;习冬梅 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明能够提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法,包括:涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1);在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下,从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂,形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2);使所述树脂层硬化的工序(3),所述上层树脂包括含氟单体,所述模具的表面涂布有脱模剂,在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面通过θ/2法测量的十六烷的接触角与通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在规定范围内。 | ||
搜索关键词: | 树脂 上层 模具 光学薄膜 下层 氟原子数 树脂层 脱模剂 测量 制造 耐磨性 凹凸构造 表面涂布 含氟单体 碳原子数 氧原子数 防污性 接触角 铝原子 十六烷 推压 硬化 | ||
【主权项】:
1.一种表面具有多个凸部以可见光波长以下的间隔设置的凹凸构造的光学薄膜的制造方法,其特征在于,包括:在基材薄膜上涂布下层树脂,在模具上涂布上层树脂的工序(1);从所述上层树脂侧,将涂布有上层树脂的所述模具推压至涂布于所述基材薄膜上的所述下层树脂,形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2);使所述树脂层硬化的工序(3);所述上层树脂包括含氟单体,所述模具的表面涂布有脱模剂,所述脱模剂含有碳原子、氧原子以及氟原子作为构成原子,所述模具含有铝原子以及氧原子作为构成原子,在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面滴下十六烷,当将通过θ/2法测量的紧跟着十六烷滴下后的接触角定义为θA(单位:°),将十六烷滴下四分钟之后的接触角定义为θB(单位:°)时,θA以及θB为85°以上,且θA与θB之差为3.5°以下,通过X射线光束直径100μm,分析面积1000μm×500μm,以及光电子的取出角度45°的条件下的X射线光电子能谱法测量的,涂布了所述脱模剂的所述模具表面的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在30atm%以上。
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