[发明专利]多层膜及制造方法有效

专利信息
申请号: 201780012145.5 申请日: 2017-02-13
公开(公告)号: CN108698389B 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 三浦拓也 申请(专利权)人: 日本瑞翁株式会社
主分类号: B32B27/30 分类号: B32B27/30;B32B27/32;B32B27/36;B32B27/08;B32B27/00;C08F8/42;B29C48/18;B29K83/00;B29L7/00;B29L9/00
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 赵曦;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种多层膜,其具有由树脂[I]形成的第一树脂层和设置于上述第一树脂层的至少一面的由树脂[II]形成的第二树脂层,上述树脂[I]包含嵌段共聚物氢化物的烷氧基甲硅烷基改性物[3]及酯化合物[4],上述烷氧基甲硅烷基改性物[3]为将嵌段共聚物[1]的主链和侧链的碳‑碳不饱和键及芳香环的碳‑碳不饱和键的90%以上进行氢化而成的氢化物[2]的烷氧基甲硅烷基改性物,上述树脂[I]中的上述酯化合物[4]的比例为0.1重量%~10重量%。
搜索关键词: 多层 制造 方法
【主权项】:
1.一种多层膜,具有由树脂I形成的第一树脂层、和设置于所述第一树脂层的至少一面的由树脂II形成的第二树脂层,所述树脂I包含嵌段共聚物氢化物的烷氧基甲硅烷基改性物3及酯化合物4,所述烷氧基甲硅烷基改性物3为将嵌段共聚物1的主链和侧链的碳‑碳不饱和键及芳香环的碳‑碳不饱和键的90%以上进行氢化而成的氢化物2的烷氧基甲硅烷基改性物,所述嵌段共聚物1具有:以芳香族乙烯基化合物单元为主成分的、相对于1分子所述嵌段共聚物1为2个以上的聚合物嵌段A;以及以链状共轭二烯化合物单元为主成分的、相对于1分子嵌段共聚物1为1个以上的聚合物嵌段B,所述聚合物嵌段A在全部所述嵌段共聚物1中所占的重量百分比wA与所述聚合物嵌段B在全部所述嵌段共聚物1中所占的重量百分比wB的比,即wA/wB,为20/80~60/40,所述树脂I中的所述酯化合物4的比例为0.1重量%~10重量%。
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