[发明专利]抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂有效

专利信息
申请号: 201780010236.5 申请日: 2017-03-15
公开(公告)号: CN108700835B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 阿部信纪;佐藤信宽 申请(专利权)人: 日本瑞翁株式会社
主分类号: G03F7/38 分类号: G03F7/38;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 邵秋雨;赵曦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的抗蚀剂图案形成方法包含以下工序:制备放射线敏感性树脂组合物的制备工序、在基板上形成放射线敏感性树脂组合物的涂膜的涂敷工序、在第1温度对涂膜进行加热的第1热处理工序、对得到的抗蚀剂膜照射活性放射线的曝光工序、以及曝光工序开始以后在第2温度条件下保持抗蚀剂膜的第2热处理工序,上述放射线敏感性树脂组合物含有碱溶性树脂(a)、交联成分(b)及吸收活性放射线的化合物(c),相对于100质量份的树脂(a),包含超过1.0质量份的化合物(c)。在此,第1温度为第2温度以上。
搜索关键词: 抗蚀剂 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种抗蚀剂图案形成方法,包含以下工序:制备工序,制备放射线敏感性树脂组合物,涂敷工序,将所述放射线敏感性树脂组合物涂敷在基板上并进行干燥而形成涂膜,第1热处理工序,在第1温度对所述涂膜进行加热,曝光工序,对经过所述第1热处理工序而得到的抗蚀剂膜照射活性放射线,以及第2热处理工序,在所述曝光工序开始以后,在第2温度条件下保持所述抗蚀剂膜,所述放射线敏感性树脂组合物含有碱溶性树脂a、通过活性放射线的照射或者活性放射线的照射及其后的热处理而交联所述碱溶性树脂的交联成分b、以及吸收所述活性放射线的化合物c,(1)所述交联成分b是通过所述活性放射线的照射而产生酸的化合物和将所述通过活性放射线而产生的酸作为催化剂从而交联所述碱溶性树脂a的化合物的组合,(2)相对于100质量份的所述碱溶性树脂a,包含超过1.0质量份的所述吸收活性放射线的化合物c,且所述第1温度为所述第2温度以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本瑞翁株式会社,未经日本瑞翁株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780010236.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top