[发明专利]曝光装置及曝光方法

摘要

提供一种曝光技术，该曝光技术即使为了不同的品种而进行不同曝光图案的曝光的情况下，也不费功夫及成本，适合于多品种少量生产。工件(W)的各对位标记(AM)经透射型的数字光掩模(2)而被各相机(7)拍摄，基于各拍摄数据，控制器(4)上的修正程序修正原始的图案数据。修正中包含掩模图案的显示位置的修正、倍率的修正。来自光源(1)的包含紫外线的光通过所修正的掩模图案而向工件(W)照射，工件(W)被曝光。

主权项

1.一种曝光装置，其特征在于，具备：光源，放出包含紫外线的光；透射型的数字光掩模；传送系统，向通过了数字光掩模的来自光源的光的照射位置传送工件；相机，拍摄被传送到光的照射位置的工件的特定部位；以及控制器，数字光掩模具有通过控制器来控制的大量的像素，各像素能够取透射紫外线的关闭状态和遮断紫外线的打开状态，控制器具备：存储部，存储有用于使数字光掩模进行掩模图案的显示的数据即图案数据；和输出部，对数字光掩模输出图案数据来使数字光掩模进行掩模图案的显示，并且，在控制器中安装有修正程序，该修正程序基于相机的拍摄数据来修正图案数据，并从输出部输出所修正的图案数据，修正程序包含显示位置修正模块，该显示位置修正模块根据由相机拍摄的工件的特定部位的拍摄数据，修正数字光掩模上的掩模图案的显示位置。