[发明专利]表面处理用组合物以及使用其的抗蚀图案的表面处理方法在审
申请号: | 201780008738.4 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN108604070A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 王晓伟;长原达郎 | 申请(专利权)人: | AZ电子材料(卢森堡)有限公司 |
主分类号: | G03F7/40 | 分类号: | G03F7/40 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘卓然 |
地址: | 卢森堡国*** | 国省代码: | 卢森堡;LU |
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摘要: | 本发明提供一种涂布性优异的表面处理用组合物,其可提高抗蚀图案的耐热性,且可降低抗蚀图案相对于溶剂的溶解性。另外,本发明提供一种使用该表面处理用组合物的抗蚀图案的表面处理方法、以及使用该表面处理用组合物的抗蚀图案的形成方法。本发明提供一种抗蚀图案的表面处理用组合物,其特征在于,其包含溶剂、以及可溶于前述溶剂的聚硅氧烷化合物,构成前述聚硅氧烷化合物的硅原子与被氮取代的烃基键合,条件是前述硅原子与前述烃基中的碳原子直接结合。本发明还提供一种使用该组合物的表面处理方法,以及一种使用该组合物的抗蚀图案的形成方法。 | ||
搜索关键词: | 抗蚀图案 溶剂 聚硅氧烷化合物 硅原子 耐热性 烃基键合 直接结合 氮取代 碳原子 涂布性 可溶 烃基 | ||
【主权项】:
1.一种抗蚀图案的表面处理用组合物,其包含溶剂、以及可溶于所述溶剂的聚硅氧烷化合物,其中,构成所述聚硅氧烷化合物的硅原子与被氮取代的烃基键合,条件是所述硅原子与所述烃基中的碳原子直接结合。
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