[发明专利]制冷装置在审
| 申请号： | 201780008218.3 | 申请日： | 2017-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN108496049A | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 田中勝;平良繁治;配川知之;清水義喜 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | F25B1/00 | 分类号： | F25B1/00;C09K5/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 马淑香 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 制冷装置(100)包括热源单元(10)、利用单元(20A)、液态制冷剂配管(31)以及气态制冷剂配管(32)。利用单元(20A)具有利用单元内部管路(29a～29c)。液态制冷剂配管(31)和气态制冷剂配管(32)连接热源单元(10)和利用单元内部管路(29a～29c)。制冷剂在热源单元(10)、利用单元(20A)、液态制冷剂配管(31)以及气态制冷剂配管(32)中循环。制冷剂包括由具有一个以上的碳‑碳不饱和键的分子式表示的化合物。在液态制冷剂配管(31)、气态制冷剂配管(32)以及利用单元内部管路(29a～29c)中的至少一部分的内表面涂敷有对制冷剂的歧化反应进行抑制的歧化反应抑制剂。 | ||
| 搜索关键词： | 配管 液态制冷剂 制冷剂 气态制冷剂 内部管路 热源单元 歧化反应 制冷装置 制冷剂配管 不饱和键 内表面 抑制剂 涂敷 | ||
【主权项】：
1.一种制冷装置(100)，其特征在于，包括：热源单元(10)；利用单元(20A)，所述利用单元(20A)具有利用单元内部管路(29a～29c)；液态制冷剂配管(31)和气态制冷剂配管(32)，所述液态制冷剂配管(31)和所述气态制冷剂配管(32)连接所述热源单元和所述利用单元内部管路；以及制冷剂，所述制冷剂在所述热源单元、所述利用单元、所述液态制冷剂配管以及所述气态制冷剂配管中循环，所述制冷剂包括由具有一个以上的碳‑碳不饱和键的分子式表示的化合物，在所述液态制冷剂配管、所述气态制冷剂配管以及所述利用单元内部管路中的至少一部分的内表面涂敷有对所述制冷剂的歧化反应进行抑制的歧化反应抑制剂(40)。
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