[发明专利]聚酰亚胺薄膜的制造方法、聚酰亚胺薄膜、聚酰胺酸溶液及感光性组合物在审

专利信息
申请号: 201780007294.2 申请日: 2017-01-12
公开(公告)号: CN108473698A 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: 小松伸一;野田国宏;千坂博树;盐田大 申请(专利权)人: JXTG能源株式会社;东京应化工业株式会社
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08G73/10;C08K5/00;C08L79/08
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;尹明花
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种聚酰亚胺薄膜的制造方法,其特征在于,包括:准备含有溶剂、特定通式所表示的四羧酸二酐和特定通式所表示的芳香族二胺,并且上述四羧酸二酐与上述芳香族二胺的合计含量为15质量%以下的原料混合液,在该原料混合液中使上述四羧酸二酐与上述芳香族二胺进行反应,形成具有特定通式所表示的重复单元的聚酰胺酸,从而制得粘度为5~150cps的聚酰胺酸溶液的工序;在上述聚酰胺酸溶液中,添加特定通式所表示的化合物而制得聚酰亚胺形成用混合液的工序;以及,形成由上述聚酰亚胺形成用混合液构成的膜,经由该膜中的上述聚酰胺酸进行酰亚胺化,制得由特定通式所表示的聚酰亚胺所形成的薄膜的工序。
搜索关键词: 聚酰胺酸溶液 聚酰亚胺薄膜 芳香族二胺 四羧酸二酐 聚酰亚胺 原料混合液 聚酰胺酸 混合液 感光性组合物 酰亚胺化 溶剂 薄膜 制造
【主权项】:
1.一种聚酰亚胺薄膜的制造方法,其特征在于,包括如下工序:准备含有溶剂、下述通式(1)所表示的四羧酸二酐和下述通式(2)所表示的芳香族二胺,并且所述四羧酸二酐与所述芳香族二胺的合计含量为15质量%以下的原料混合液,在该原料混合液中使所述四羧酸二酐与所述芳香族二胺进行反应,从而形成具有下述通式(3)所表示的重复单元的聚酰胺酸,并制得粘度为5~150cps的聚酰胺酸溶液的工序,式(1)中,R1、R2、R3分别独立地表示选自氢原子、碳原子数1~10的烷基及氟原子中的1种,n表示0~12的整数,H2N‑R10‑NH2     (2)式(2)中,R10表示碳原子数6~50的芳基,式(3)中,R1、R2、R3分别独立地表示选自氢原子、碳原子数1~10的烷基及氟原子中的1种,R10表示碳原子数6~50的芳基,n表示0~12的整数;在所述聚酰胺酸溶液中添加下述通式(4)所表示的化合物,从而制得聚酰亚胺形成用混合液的工序,式(4)中,R11表示选自氢原子及烷基中的1种,R12表示具有或不具有取代基的芳香族基团,R13表示具有或不具有取代基的亚烷基,R14分别独立地表示选自卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、硅烷基、硅醇基、硝基、亚硝基、磺酸根基、膦基、氧膦基、膦酸根基及有机基团中的1种,m表示0~3的整数;以及形成由所述聚酰亚胺形成用混合液构成的膜,使该膜中的所述聚酰胺酸进行酰亚胺化,从而制造由具有下述通式(5)所表示的重复单元的聚酰亚胺所形成的薄膜的工序,式(5)中,R1、R2、R3分别独立地表示选自氢原子、碳原子数1~10的烷基及氟原子中的1种,R10表示碳原子数6~50的芳基,n表示0~12的整数。
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