[外观设计]基板处理单元有效
| 申请号： | 201730079198.1 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN304293419S | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 属优作;川崎裕通 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | 15-99 | 分类号： | 15-99 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 丁文蕴,许凯 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1．本外观设计产品的名称基板处理单元。2．本外观设计产品的用途本产品为一种基板处理单元，其使用在半导体晶圆制造中，具有两个处理空间，连接上述两个处理空间的气体供给线路及排气线路组成了内腔处理室，该内腔处理室内设置了持有各个基板的驱动式基板台。3．本外观设计产品的设计要点如主视图中所示的形状，最能表达本外观设计产品的设计要点。特别在于B部所示形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片立体图。5．在示出各部名称参考图中，A‑内腔（内腔处理室），B‑排气管道，C‑排气线中间室，D‑压力控制阀，E‑涡轮分子泵。在使用状态参考图中，F‑盖。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 单元 | ||
【主权项】：
暂无信息
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