[实用新型]一种砷化镓红外镀膜结构有效

专利信息
申请号: 201721751774.3 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN207976598U 公开(公告)日: 2018-10-16
发明(设计)人: 欧杰辉 申请(专利权)人: 深圳市飞莱特科技有限公司
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B5/20
代理公司: 深圳市中联专利代理有限公司 44274 代理人: 李俊
地址: 518000 广东省深圳市龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型所涉及一种砷化镓红外镀膜结构,其包括基材层,设置于基材层上面的复数层的减反膜层。因所述的基材层与减反膜层之间设置有用于粘贴作用的中间层;所述的中间层为由YF3氟化钇材料制成的。使用时,所述中间层将所述复数层减反膜层固定粘贴在基材层上面,从而避免因被镀减反膜层的牢固性差而影响被粘贴的减反膜层被脱落,缺块,被损坏,寿命短的技术问题发生。
搜索关键词: 减反膜层 基材层 中间层 红外镀膜 复数层 砷化镓 粘贴 本实用新型 固定粘贴 氟化钇 牢固性 缺块
【主权项】:
1.一种砷化镓红外镀膜结构,其包括基材层,设置于基材层上面的复数层的减反膜层;其特征在于:所述的基材层与减反膜层之间设置有用于粘贴作用的中间层;所述的中间层为由YF3氟化钇材料制成的;所述基材层是由砷化镓材料制成的;所述减反膜层与减反膜层相互层叠形成层状体。
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