[实用新型]自调节光罩及光罩弯曲校正系统有效
申请号: | 201721460272.5 | 申请日: | 2017-11-03 |
公开(公告)号: | CN207408741U | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 章勇;黄顺宏;闫明超;罗卫;朱广飞 | 申请(专利权)人: | 深圳市柔宇科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 张秋红;王少虹 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种自调节光罩及光罩弯曲校正系统,自调节光罩包括光罩板以及一侧开放的弯曲补偿单元,所述光罩板密封在所述弯曲补偿单元的开放侧,所述光罩板和弯曲补偿单元之间的密闭空间形成一个负压室。本实用新型的自调节光罩,将弯曲补偿单元和光罩板密封连接成一个整体的双层结构,两者之间的密闭空间形成一个负压室,在光罩板置于光罩台上、移动等情况下因自身重力作用会产生一定量的下垂时,通过负压室产生的负压对光罩板产生一个向上的吸附力,对光罩板的下垂量进行补正,保证光罩板在曝光过程不会弯曲。 | ||
搜索关键词: | 光罩 光罩板 弯曲补偿 负压室 本实用新型 密闭空间 弯曲校正 罩板 自身重力作用 密封连接 曝光过程 双层结构 吸附力 下垂量 下垂 补正 负压 密封 开放 移动 保证 | ||
【主权项】:
1.一种自调节光罩,其特征在于,包括光罩板(10)以及一侧开放的弯曲补偿单元(20),所述光罩板(10)密封在所述弯曲补偿单元(20)的开放侧,所述光罩板(10)和弯曲补偿单元(20)之间的密闭空间形成一个负压室;所述弯曲补偿单元(20)上设有连通所述负压室的抽真空接口(30)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市柔宇科技有限公司,未经深圳市柔宇科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721460272.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:衰减装置及光刻机
- 下一篇:掩模版冷却装置以及光刻机台