[实用新型]一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构

摘要

本实用新型公开了一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构，所述的下盘水冷盘底面上设有若干个冷却腔，下盘水冷盘上设有进水口且进水口与冷却腔连通，下盘工作盘安装在下盘水冷盘的底面上，进水管通过管卡安装在下盘水冷盘的顶面上，进水管末端安装在进水接头上，下盘水冷盘上设有出水口且出水口与冷却腔连通，下盘水冷盘底面与下盘工作盘顶面接触面之间设有两个密封圈槽，第一密封圈安装在位于出水口所在圆周内侧的密封圈槽，第二密封圈安装在位于出水口所在圆周外侧的密封圈槽。本实用新型可对盘体进行强制冷却，从而实现盘体的温度控制，对盘温的有效控制确保了抛盘在加工过程中的几何精度的保持，从而提高了晶片的加工精度。

主权项

一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构，其特征在于：包括连接螺纹孔(1)、管卡(2)、冷却腔(3)、密封圈槽(4)、出水口(5)、进水管(6)、进水接头(7)、进水口(8)、下盘水冷盘(9)、第一密封圈(10)、第二密封圈(11)和下盘工作盘(12)，所述的下盘水冷盘(9)的顶面上设有若干个连接螺纹孔(1)，所述的下盘水冷盘(9)底面上设有若干个冷却腔(3)，所述的下盘水冷盘(9)上设有进水口(8)且进水口(8)与冷却腔(3)连通，所述的下盘工作盘(12)安装在下盘水冷盘(9)的底面上，所述的进水接头(7)安装在进水口(8)上，所述的进水管(6)通过管卡(2)安装在下盘水冷盘(9)的顶面上，所述的进水管(6)末端安装在进水接头(7)上，所述的下盘水冷盘(9)上设有出水口(5)且出水口(5)与冷却腔(3)连通，所述的下盘水冷盘(9)底面与下盘工作盘(12)顶面接触面之间设有两个密封圈槽(4)且一个密封圈槽(4)位于出水口(5)所在圆周内侧，另一个所述的密封圈槽(4)位于出水口(5)所在圆周外侧，所述的第一密封圈(10)安装在位于出水口(5)所在圆周内侧的密封圈槽(4)，所述的第二密封圈(11)安装在位于出水口(5)所在圆周外侧的密封圈槽(4)。