[实用新型]一种研磨装置有效
| 申请号： | 201721298785.0 | 申请日： | 2017-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN207563034U | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 赵媛;任丽;高永亮;解鑫;梁春梅;许璐;喻东威;常建军;宋晓东 | 申请（专利权）人： | 内蒙古蒙牛乳业（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | B02C19/00 | 分类号： | B02C19/00 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 李敏 |
| 地址： | 011500 内蒙古自*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本实用新型属于食品检测技术领域，公开了一种研磨装置。该研磨装置通过设置第一研磨单元和第二研磨单元，当研磨样品时，利用第一研磨单元上的研磨凸面内嵌第二研磨单元上的研磨凹面凹陷形成的样品容置内腔中，利用外界力去挤压第一研磨单元，可将样品紧密挤压至研磨凸面与研磨凹面间，如此多次挤压，便可达到研磨样品的目的。同时，研磨样品时，研磨凸面与研磨凹面接触面积大，样品不易外溢，可达到充分研磨样品的目的，提高了样品粉末的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 研磨单元 研磨装置 凸面 凹面 挤压 本实用新型 凹面接触 不易外溢 多次挤压 容置内腔 食品检测 样品粉末 均一性 外界力 凹陷 内嵌 | ||
【主权项】：
1.一种研磨装置，包括研磨组件，其特征在于，所述研磨组件包括，第一研磨单元，具有研磨凸面；第二研磨单元，具有研磨凹面，所述研磨凹面凹陷形成样品容置内腔，当研磨样品时，所述研磨凸面适于内嵌所述样品容置内腔中，并将样品紧密挤压至所述研磨凸面与所述研磨凹面间。
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