[实用新型]一种基于可升降平台的辊对平面紫外纳米压印装置有效
| 申请号： | 201721189900.0 | 申请日： | 2017-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN207190552U | 公开（公告）日： | 2018-04-06 |
| 发明（设计）人： | 谷岩;周岩;林洁琼;张群;陈斯;韩小龙;李景鹏;孙慧岩;郭海龙;田旭;易正发;曹东旭 | 申请（专利权）人： | 长春工业大学 |
| 主分类号： | B41J2/435 | 分类号： | B41J2/435 |
| 代理公司： | 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司22100 | 代理人： | 魏征骥 |
| 地址： | 130000 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种基于可升降平台的辊对平面紫外纳米压印装置，属于紫外纳米压印光刻领域。调节装置通过螺钉固定在主机架上部的滑块三和滑块四上，可升降平台的步进电机一固定于机架内部，并通过与支撑杆轴承配合固定于机架上，工作平台的Y轴工作平台方向指向可升降平台，工作平台通过螺钉固定于机架中央的底板上，运输装置一和运输装置二通过螺栓分别固定于机架的两侧，紫外灯固定于机架的支撑梁上，干蚀刻装置与机架由螺钉连接，固定于机架右侧的通道中。优点是结构新颖，压印装置相较于以往的滚对平面压印装置有更高的生产效率；使得模板与衬底更好的共形接触；减少了紫外曝光过程中热应力较大对模板和衬底的损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 升降 平台 平面 紫外 纳米 压印 装置 | ||
【主权项】：
一种基于可升降平台的辊对平面紫外纳米压印装置，其特征在于:包括调节装置，滚筒装置，可升降平台,运输装置一，工作平台，紫外灯，干刻蚀装置，运输装置二，机架，其中，调节装置通过螺钉固定在主机架上部的滑块三和滑块四上，可升降平台的步进电机一固定于机架内部，并通过与支撑杆轴承配合固定于机架上，工作平台的Y轴工作平台方向指向可升降平台，工作平台通过螺钉固定于机架中央的底板上，运输装置一和运输装置二通过螺栓分别固定于机架的两侧，紫外灯固定于机架的支撑梁上，干蚀刻装置与机架由螺钉连接，固定于机架右侧的通道中。
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