[实用新型]翻转型研磨抛光机有效
申请号: | 201721130732.8 | 申请日: | 2017-09-05 |
公开(公告)号: | CN207104627U | 公开(公告)日: | 2018-03-16 |
发明(设计)人: | 胡皱文;贺德荣 | 申请(专利权)人: | 东莞市中研机械设备有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种翻转型研磨抛光机,包括配合使用以用于对原料进行研磨抛光的上模座及下模座、用于带动上模座定向运动及翻转的上下导轨装置及用于控制所述翻转型研磨抛光机的控制装置,所述上下导轨装置包括装设于所述上模座两侧以配合使用使得上模座上下移动的主导轨机构和副导轨机构,所述主导轨机构包括一组平行设置的第一导轨,所述副导轨机构包括一组平行设置的第二导轨。本实用新型实施例通过在上模座两侧设置主导轨机构和副导轨机构,通过主导轨机构设有的第一导轨和副导轨机构设有的第二导轨的配合使用,能够使得上模座平稳上升、不出现摇晃的现象便于后续的抛光研磨操作。 | ||
搜索关键词: | 转型 研磨 抛光机 | ||
【主权项】:
一种翻转型研磨抛光机,其特征在于,包括配合使用以用于对原料进行研磨抛光的上模座及下模座、用于带动上模座定向运动及翻转的上下导轨装置及用于控制所述翻转型研磨抛光机的控制装置,所述上下导轨装置包括装设于所述上模座两侧以配合使用使得上模座上下移动的主导轨机构和副导轨机构,所述主导轨机构包括一组平行设置的第一导轨,所述副导轨机构包括一组平行设置的第二导轨。
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