[实用新型]一种光刻机光源漏光监测系统有效
| 申请号： | 201721061142.4 | 申请日： | 2017-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN207281466U | 公开（公告）日： | 2018-04-27 |
| 发明（设计）人： | 牟宏惺 | 申请（专利权）人： | 成都海威华芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 成都华风专利事务所(普通合伙)51223 | 代理人： | 徐丰,张巨箭 |
| 地址： | 610029 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体制作设备领域，具体涉及一种光刻机光源漏光监测系统，包括光刻机本体，光刻机本体的遮光器远离光源的一侧设置有光电探测器，光电探测器通过光电模块与光刻机本体的主控制模块电连接。本实用新型的光电探测器在挡片闭合的状态下侦测是否有光通过，然后把监测信息传送给光刻机本体的主控制模块，达到实时监控漏光的目的，保障产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 光源 漏光 监测 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻机光源漏光监测系统，包括光刻机本体，其特征在于，所述光刻机本体的遮光器远离光源的一侧设置有光电探测器，光电探测器通过光电模块与光刻机本体的主控制模块电连接；所述光电探测器包括圆环状的基座，基座的内壁上均匀分布有若干沿基座径向设置的光电探测针。
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