[实用新型]适于基质辅助激光解析离子源的样品靶座有效
| 申请号： | 201721039593.8 | 申请日： | 2017-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN207148035U | 公开（公告）日： | 2018-03-27 |
| 发明（设计）人： | 吴鹏鹏;蔡克亚;李彬;张彤;秦安磊;吴学炜;刘聪;王超;王存鑫;赵高岭 | 申请（专利权）人： | 安图实验仪器（郑州）有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/64 | 分类号： | G01N27/64;H01J49/16 |
| 代理公司： | 郑州异开专利事务所(普通合伙)41114 | 代理人： | 王霞 |
| 地址： | 450016 河南省*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种适于基质辅助激光解析离子源的样品靶座，包括靶座本体，所述靶座本体的底面上间隔开设有起支撑作用的平面槽、起限位作用的椭圆锥台孔和起定位作用的圆锥台孔；所述平面槽的槽底、椭圆锥台孔和圆锥台孔的孔底分别开设有凹腔，每个所述的凹腔内均固设有磁体。本实用新型优点在于通过开设在靶座本体底面的平面槽、椭圆锥台孔和圆锥台孔，巧妙的控制了靶座本体在空间六个自由度，使得进、出样装置在出样过程中，通过施加外力克服磁力可以使样品靶座与移动平台分离开，而随后当进样时又能准确的落到移动平台的定位柱上，稳定的随移动平台移动。 | ||
| 搜索关键词： | 适于 基质 辅助 激光 解析 离子源 样品 | ||
【主权项】：
一种适于基质辅助激光解析离子源的样品靶座，包括靶座本体， 其特征在于：所述靶座本体的底面上间隔开设有起支撑作用的平面槽、起限位作用的椭圆锥台孔和起定位作用的圆锥台孔；所述平面槽的槽底、椭圆锥台孔和圆锥台孔的孔底分别开设有凹腔，每个所述的凹腔内均固设有磁体。
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