[实用新型]一种电催化氧还原处理设备有效
| 申请号： | 201720845824.8 | 申请日： | 2017-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN207133234U | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 朱小方;魏跃;臧涵 | 申请（专利权）人： | 南京大学连云港高新技术研究院 |
| 主分类号： | G01N27/48 | 分类号： | G01N27/48;G01N27/28 |
| 代理公司： | 江苏银创律师事务所32242 | 代理人： | 王纪营 |
| 地址： | 222000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种电催化氧还原处理设备，包括电解槽、电解槽内设置有电解液；所述电解槽内分别设置有螺旋式保温系统、环式进气系统，电解槽顶部设置有与电解槽密封连接的电解槽盖子，所述电解槽盖子上设置有环式进气系统插孔、旋转圆盘电极插孔、对电极插孔、参比电极插孔以及保护气进气系统插孔；保温系统，可满足在特定温度下对催化剂性能探究的目的，最外层为电解槽容器，密闭的保温系统为螺旋式，使整个系统的温度在较快时间内达到设定温度；对电极以及参比电极确切的插孔起到了很好的固定作用，以防在旋转圆盘电极转动的条件下发生下滑而损坏，也可减少每次测量时由于电极放置不同而产生的误差，使其测量的重复性以及准确度提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电催化 还原 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种电催化氧还原处理设备，其特征在于：包括电解槽、电解槽内设置有电解液；所述电解槽内分别设置有螺旋式保温系统、环式进气系统，电解槽顶部设置有与电解槽密封连接的电解槽盖子，所述电解槽盖子上设置有环式进气系统插孔、旋转圆盘电极插孔、对电极插孔、参比电极插孔以及保护气进气系统插孔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京大学连云港高新技术研究院，未经南京大学连云港高新技术研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201720845824.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种半导体晶圆清洗后的干燥方法
- 下一篇：一种半导体晶圆键合工艺
