[实用新型]一种组织取材装置有效

专利信息
申请号: 201720805206.0 申请日: 2017-07-05
公开(公告)号: CN207051009U 公开(公告)日: 2018-02-27
发明(设计)人: 王永丽 申请(专利权)人: 中国辐射防护研究院
主分类号: G01N1/06 分类号: G01N1/06
代理公司: 北京天悦专利代理事务所(普通合伙)11311 代理人: 田明,任晓航
地址: 030006 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 实用新型涉及一种组织取材装置。现有的组织取材装置的取材厚度固定,并且准确性较低。本实用新型所述的组织取材装置,包括刀柄、双刀片、刻度尺、固定轴;所述刻度尺上设置有刻度线,所述刻度尺活动的设置在所述刀柄上,所述双刀片中的第一刀片固定在所述刀柄上,第二刀片固定在所述刻度尺上,所述固定轴固定在所述刀柄上。采用本实用新型所述的组织取材装置,可以在取材之前调整刻度尺,从而调整第一刀片与第二刀片之间的间距,进而精确控制最终取材的厚度,提升了组织取材的准确性。
搜索关键词: 一种 组织 取材 装置
【主权项】:
一种组织取材装置,其特征在于,包括:刀柄、双刀片、刻度尺、固定轴;所述刻度尺上设置有刻度线,所述刻度尺活动的设置在所述刀柄上,所述双刀片中的第一刀片固定在所述刀柄上,第二刀片固定在所述刻度尺上,所述固定轴固定在所述刀柄上。
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