[实用新型]一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备有效
申请号: | 201720717257.8 | 申请日: | 2017-06-20 |
公开(公告)号: | CN206795537U | 公开(公告)日: | 2017-12-26 |
发明(设计)人: | 李丰 | 申请(专利权)人: | 成都久久陶瓷有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/04;B24B41/06;B24B55/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610000 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,该半封闭式抛光设备包括抛光组件,该抛光组件旋转部和抛光部,抛光部设置在旋转部内;该抛光部包括抛光磨砂头和第一抛光外壳,该抛光磨砂头设置在第一抛光外壳内;该旋转部包括第二驱动电机、第二抛光外壳和抛光支撑架,该第二驱动电机设置在第二抛光外壳内,该第二抛光外壳设置在第一抛光外壳外,该抛光支撑架设置在第二抛光外壳外。本实用新型通过抛光组件中的嵌套式抛光头和抛光支撑架,可实现全方位的旋转操作,能够对异形陶瓷工件进行抛光,并且抛光组件结构简单,能够在一个设备中实现抛光,节省了抛光过程中的占用空间。 | ||
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【主权项】:
一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,其包括抛光组件,所述抛光组件包括旋转部和抛光部,所述抛光部设置在所述旋转部内;所述抛光部包括抛光磨砂头和第一抛光外壳,所述抛光磨砂头设置在所述第一抛光外壳内;所述旋转部包括第二驱动电机、第二抛光外壳和抛光支撑架,所述第二驱动电机设置在第二抛光外壳内,所述第二抛光外壳设置在所述第一抛光外壳外,所述抛光支撑架设置在第二抛光外壳外。
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